:: 대동하이텍 ::

2010. 12	LED센터 에 LED Fab 장비 일괄 수주 및 납품 1. E-Beam Evaporator system 2. ICP , RIE Etcher system 3. PE CVD system 4. RTP System 5. Utility (Gas Cabinet, Gas Scrubber, Gas Line Hook-up)
2009. 12 04	Mass production Sputtering System (second) 납품 (LED업체) Potable X-Ray system 설계 및 납품
2008. 07 03 03	CNT Packaging system설계 및 납품 Mass production Sputtering System 납품 (LED 업체) 초고속 진공 증착장치 개발 및 납품 Deposition Rate : Up to 1000Å/Sec (For Metal)
2007. 12 09 04	X-Ray Measurement system 설계 및 납품 CNT (Carbon Nano Tube) Application system 설계 및 납품 대동하이텍 창립

2014. 02	E-Beam Crystalization System 장비 개발 - Si Crystalization Process (Sample Size : 370mm x 470mm)
2013.07 04 01	LAMP 양산화 장비개발 - Cluster type System 장비개발 및 양산 준비 Mass production Sputter System 장비 납품 - 4” LED 양산용 특허등록 (대한민국특허청(KR) 특허명 : 유도가열방식을 이용한 초고속 진공 증착기
2012. 06 02	산학융합기술교육지원사업 과제계약 과제명 : LED 칩제조 자동화 공정을 위한 차세대 전극증착설비 개발 과제기간 : 2012 6월1일 ~ 2013년 3월 31일 D-RAM 제조업체 Pilot Sputter System 납품
2011. 06 06 05 05	특허등록 (대한민국특허청(KR) 특허명 : 전계방출 패널을 이용한 전자빔 증착장치 및 그 장치의 전계방출 패널 제조방법 Multi-X-Ray source system 제작 및 납품 Mass production Sputtering System (Third) 납품 (LED업체) 재단법인 산학협동재단에 기업체 Matching Fund 과제진행 (과제기간 : 2011. 6 -2012. 5) 연구과제명 : 전자빔 증착기용 나노기반 전자빔 제작기술연구

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